【Intel來勢洶洶】
原先以為Intel只是喊喊話而已,沒想到真的做了。
到底Intel做了什麼?
原來Intel在前天(1/19)宣佈,
向ASML下訂業界首台High-NA量產型EUV曝光機
EXE:5200,
並且計劃在2025年進入生產。
雖然設備業界指出,
台積電早已向ASML採購
High-NA研發型EUV曝光機EXE: 5000,
並且隨著位於竹科寶山的2奈米晶圓廠Fab 20
開始啟動建廠計畫,
預期2022年內就會跟進
對ASML下訂High-NA量產型EUV曝光機。
不過,早在2018年
Intel就已經是EXE:5000系統的首位買家來看,
這次Intel想要挑戰台積電2奈米的高階製程,
似乎不是說說而已。
【EUV耗材零組件供應商受惠】
這兩家科技大廠的先進製程之戰,
誰勝誰負我們也說不準,只能繼續看下去,
但是可以確定的是
相關的EUV設備及耗材零組件廠商,很有機會受惠。
目前台灣在EUV極紫外光設備的耗材零組件廠商有:
家登(3680)、
帆宣(6196)、
公準(3178)、
意德士(7556)。
請參考附表一。
表一、EUV相關設備及耗材廠
資料來源:CMoney
【帆宣本益比偏低】
附表一是EUV相關設備及耗材廠,
依照本益比由低到高排序。
目前本益比較低的是帆宣(6196),本益比大約18倍,
帆宣主要在做EUV電射穩壓等次模組代工,
去年營收全年成長37.2%,
算是成長幅度相對大的廠商,
不過毛利率11.5%。
家登(3680)自2012年起
就與台積電及ASML共同開發EUV POD,
目前全球市占率大於80%,市場能見度高,
本益比也相對高,目前大約是68倍。
另外兩家一般投資朋友較少聽到。
公準(3178)主要提供電子束檢測設備零組件,
去年營收成長9.4%,本益比大約是38倍。
而意德士主要提供半導體曝光製程真空吸盤,
以演算法模擬出真空吸盤的最佳「曲度」,
提高了晶圓曝光中的良率,
與台積電的合作
也一路自10奈米製程合作到3奈米製程。
【台積電無近憂但需遠慮】
許多投資朋友擔心,
Intel在先進製程上的發展,到底有沒有威脅。
由於英特爾向ASML下訂的
「業界首台」量產型EUV曝光機EXE:5200,
是款具備High-NA的EUV大量生產系統,
每小時晶圓曝光產能可達200片以上。
這跟台積電先前
向ASML採購High-NA研發型EUV曝光機EXE: 5000,
每小時晶圓曝光產能可達150片以上相比,
的確是有量產上的優勢,
而且可以支援下一世代的埃米(angstorm)製程。
所以如果Intel一切都順利的話,
的確對台積電會造成威脅。
不過,就像三星很早就切入3奈米製程一樣,
最後因為良率不高,使得客戶不敢放手下單,
依舊無法超車台積電。
而台積電總裁魏哲家在2021年10月法說會上,
就已經信心十足回應,
2025年的台積電2奈米製程,
不論是密度或是效能,都將是最領先的技術。
所以,
我們應該還是要對護國神山台積電有信心才是。
祝各位投資朋友操作順利。
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作者簡介:
從事金融證券業20年,合格證券分析師
現任仲英財富投資長、
CMoney全曜財經顧問、財經主筆,
並且是證基會、中正社區大學以及明星雲學院講師,
Yahoo理財專欄、商周財富網、今周刊
以及凱基樂活投資誌特約作者。
投資心法首重總體經濟的多空循環,
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認為「擇機入市」才是股市投資的獲利法門。
目前有2本著作:「相信我,你的錢賺不完」、「台股股民曆」
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